Фотолитограф.

       Источник изображения: mashnews.ru

       АО ？Микрон？ заявило о завершении разработки фотолитографа с нормами 350 нм. Эксперты омневаются в том, что оборудование можно назвать полностью российским

       Разработка фотолитографа на 350 нм завершена, ？Микрон？ участвовал в госкомиссии по его приемке, сообщили Mashnews в АО ？Микрон？ 12 марта. Фотолитограф создавался в сотрудничестве ？Микрона？ с Зеленоградским нанотехнологическим центром. Соглашение об этом они подписали осенью 2024 года.

       Соучредитель Ассоциации производителей компьютеров и периферийного оборудования 26/20 Максим Горшенин в беседе с Mashnews усомнился в том, что фотолитограф 350 нм можно считать полностью российским — в его разработке участвовали и специалисты из Белоруссии. Это может нести ряд рисков для технологического суверенитета России.

       СПРАВКА MASHNEWS

       Фотолитограф — основное оборудование для производства микросхем. Он переносит рисунок (элементы переходящих дорожек) на кремний. Основная характеристика литографов и производимых с его помощью микросхем — это минимальный размер дорожки или расстояние между дорожками (как на печатных платах, только существенно меньше).Весь мир сейчас говорит о 2-3 нм (нанометрах) и стремится 1 нм. Это считается физическим пределом. То есть меньше сделать уже невозможно, и нужно изобретать какие-то другие принципы. В России сейчас самыми современными технологиями являются литографы 180-90 нм.

       Миллиардные контракты

       Программу по созданию своего фотолитографического оборудования запустили в России еще несколько лет назад. С осени 2021 года по ноябрь 2024 года на портале госзакупок опубликована информация о шести тендерах на создание фотолитографического оборудования на общую сумму почти в 5,2 млрд рублей. Они касаются как разработки и освоения в производстве установки с технологическими нормами уровня 90-65 нм, так и разработки и освоения в производстве установки с проектными нормами 350 нм.

       Одним из последних тендеров стал контракт на разработку и освоение производства гелий-неоновых лазеров и фотоприемников для систем позиционирования оборудования, применяемого в производстве интегральных схем с топологическими нормами до 65 нм. В декабре 2024 года его исполнителем стал Научно-исследовательский институт газоразрядных приборов ？Плазма？, учредителем которого является АО ？Росэлектроника？ (входит в Ростех). Mashnews направил запрос подрядчику — на какой стадии сейчас находятся работы, однако в компании воздержались от комментариев.

       Партнеры из Минска

       Белорусское участие в создании российского фотолитографического оборудования не афишировалось, хотя и не скрывалось. 24 сентября на форуме ？Микроэлектроника 2024？ представители компании ？Микрон？ (входит в группу компаний ？Элемент？) и Зеленоградского нанотехнологического центра (ЗНТЦ) подписали долгосрочное соглашение о сотрудничестве в освоении технологий и производстве фотолитографического оборудования с нормами 350-90 нм. Тогда генеральный директор АО ？ЗНТЦ？ Анатолий Ковалев заявил:

       ？Производство фотолитографа требует мощнейшего научного потенциала, в мире менее 10 стран, способных его производить, в их числе и Россия. В рамках сотрудничества с ？Микроном？ планируются совместные исследования, экспериментальные работы и тестирование фотолитографического оборудования с топологическими нормами 350-90 нм, разрабатываемого совместно с белорусским ОАО ？Планар？？.

       За год до этого о совместных российско-белорусских разработках упомянул замглавы Минпромторга Василий Шпак. ？Литография на сегодняшний момент представлена только двумя компаниями в мире: голландской ASML и японской Nikon. Больше никто в мире не может этого делать. Мы сейчас встали на этот путь, причем не одни, а вместе с белорусами？, — сказал он в интервью РИА ？Новости？.

       Шпак отметил, что производство российского литографа для топологии 350 нм начнется в 2024 году, а оборудования для выпуска чипов с топологией 130 нм — в 2026 году.

       На сайте белорусского ОАО ？Планар？ фигурирует целая линейка фотографического оборудования — от устройств для проекционного переноса изображений на полупроводниковые пластины до контейнеров для фотошаблонов. В ？Планаре？ не ответили на запрос Mashnews.

       СПРАВКА MASHNEWS

       Микросхемы, изготовленные по 350 нм проектным нормам, используются практически везде (в автомобилях, самолетах, ракетах, спутниках и так далее).Создание фотолитографа с нормами 350 нм — это шаг вперед. Во-первых, он позволяет изготавливать большую номенклатуру интегральных схем, а во-вторых, планомерно переходить к следующему уровню оборудования для изготовления интегральных схем.

       Нужен паритет

       Фотолитограф с нормами 350 нм можно считать разработкой Союзного государства, но не чисто российской, потому что ？железо？ для него делают в Белоруссии, полагает Максим Горшенин.

       ？В Союзном государстве у нас очень тесная кооперация. Но технология создания этого ？железа？ есть только у Белоруссии. И если что-то вдруг внезапно произойдет, то нам придется делать откат назад. Нам передали документацию на этот литограф, но самый главный вопрос: и что дальше? А у нас есть заводы, которые пытались повторить и выяснить, все ли хорошо с этой документацией, мы сами все сделаем? Нет, этого никто не делал？, — отметил Горшенин.

       Он добавил, что сейчас в России идут работы по созданию линзы для фотолитографического оборудования. В Союзном государстве до сих пор используют линзы из дальнего зарубежья.

       ？Если мы сумеем сделать стекло, которое для литографа необходимо, а все остальное ？железо？ будем делать в Белоруссии, то две эти части друг без друга существовать не смогут？, — уточнил Горшенин.

       По его словам, стояла задача в крайне сжатые сроки создать литограф. На это дали всего четыре года. ？У нас другого выбора не было, кроме как обратиться к Белоруссии и попросить о том, чтобы работать вместе с ними. Это, в принципе, неплохой выход. Но нужно все-таки свое развивать？, — пояснил Максим Горшенин, добавив, что скопировать технологии надо и у западных компаний ASML и Nikon, а дальше уже развивать производство независимо от них.

       Как заметил в беседе с Mashnews телеком-эксперт, автор telegram-канала ？Вашу Цифру!？ Дмитрий Петровский, конечно, нужно стремиться к технологическому суверенитету. Все в стране должно быть на российских технологиях, которые при этом надо использовать не только у нас, но и в других странах мира.

       ？Но ни в коем случае нельзя отказываться от каких-то технологий и платформ, которые у нас же полезны и обеспечивают наши собственные прорывы — на международных рынках в том числе. Зачем, например, отказываться от хороших и качественных тайваньских производств, если это возможно? Другое дело, что нельзя полностью от них зависеть. Создается ситуация, в которой они что-то отключают, — и все, у нас масса проблем, мы встали. Так делать нельзя？, — подчеркнул Петровский.

       СПРАВКА MASHNEWS

       ASML — компания из Нидерландов, крупнейший в мире производитель оборудования для выпуска полупроводников (доля на мировом рынке более 90% в 2023 году).Nikon — японский производитель фотолитографического оборудования.Зеленоградский нанотехнологический центр — российский разработчик и производитель микросхем и датчиков физических величин для промышленных применений. В 2021 году выручка компании составила 933 млн рублей, прибыль — 143 млн.АО ？Микрон？ (входит в ГК ？Элемент？) — единственное в РФ серийное производство микроэлектроники с топологией до 90 нм, резидент ОЭЗ ？Технополис Москва？. ？Микрон？ производит более 800 типономиналов продукции, включая интегральные схемы для автоэлектроники, защищенных носителей данных, идентификационных, платежных и транспортных документов. В 2018 году выручка компании составила 7,6 млрд рублей, она показала убыток в 4,4 млрд.ОАО ？Планар？ — базирующийся в Минске белорусский научно-технический комплекс, который занимается разработкой и поставкой специализированного технологического оборудования для реализации технологий в микроэлектронике.

       Дмитрий Матвеев